HS编码: 84862022.00

制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置

商品描述:制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置物理气相沉积装置(PVD)

基本信息
商品名称

制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置

英文名称:Physical Vapour Deposition(PVD)equipment for the manufacture of semiconductor devices or of electronic integrated circuis

所属类目 机器、机械器具、电气设备及其零件;录音机及放声机、电视图像、声音的录制和重放设备及其零件、附件
所属章节 核反应堆、锅炉、机器、机械器具及其零件
品目 专用于或主要用于制造半导体单晶柱或晶圆、半导体器件、集成电路或平板显示器的机器及装置;本章注释九(三)规定的机器及装置;零件及附件
法定单位 台/千克

申报要素

(共10项)
1:品名; 2:品牌类型; 3:出口享惠情况; 4:用途; 5:功能; 6:品牌(中文或外文名称); 7:型号; 8:GTIN; 9:CAS; 10:其他;
监管条件 (无) -
检验检疫类别 (无) -
税率信息
税种 税率
进口关税(最惠国) 0
进口关税(普通) 30%
暂定进口税率 -
进口增值税 13%
出口关税 -
出口退税 13%
消费税率 0%
10位HS编码+3位CIQ代码(中国海关申报13位海关编码)
HS编码+CIQ代码 商品信息
8486202200.999 制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置(物理气相沉积装置(PVD))
申报实例汇总
HS编码 商品名称 商品规格
8486202200.999 制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置(物理气相沉积装置(PVD)) -
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