HS编码: 84862021.00
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置
商品描述：制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置化学气相沉积装置(CVD)
基本信息
| 商品名称 |
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 英文名称：Chemical Vapour Deposition(CVD)equipment for the manufacture of semiconductor devices or of electronic integrated circuis |
| 所属类目 | 机器、机械器具、电气设备及其零件；录音机及放声机、电视图像、声音的录制和重放设备及其零件、附件 |
| 所属章节 | 核反应堆、锅炉、机器、机械器具及其零件 |
| 品目 | 专用于或主要用于制造半导体单晶柱或晶圆、半导体器件、集成电路或平板显示器的机器及装置；本章注释九（三）规定的机器及装置；零件及附件 |
| 法定单位 | 台/千克 |
申报要素(共10项) |
1:品名； 2:品牌类型； 3:出口享惠情况； 4:用途； 5:功能； 6:品牌（中文或外文名称）； 7:型号； 8:GTIN； 9:CAS； 10:其他； |
| 监管条件 （无） | - |
| 检验检疫类别 （无） | - |
税率信息
| 税种 | 税率 |
|---|---|
| 进口关税（最惠国） | 0 |
| 进口关税（普通） | 30% |
| 暂定进口税率 | - |
| 进口增值税 | 13% |
| 出口关税 | - |
| 出口退税 | 13% |
| 消费税率 | 0% |
10位HS编码+3位CIQ代码(中国海关申报13位海关编码)
| HS编码+CIQ代码 | 商品信息 |
|---|---|
| 8486202100.999 | 制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置(化学气相沉积装置(CVD)) |
申报实例汇总
| HS编码 | 商品名称 | 商品规格 |
|---|---|---|
| 8486202100.999 | 制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置(化学气相沉积装置(CVD)) | - |
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