HS编码: 84862010.00
氧化、扩散、退火及其他热处理设备
商品描述：氧化、扩散、退火及其他热处理设备制造半导体器件或集成电路用的
基本信息
| 商品名称 |
氧化、扩散、退火及其他热处理设备 英文名称：Oxidation, diffusion, annealing and other heat treatment equipment for the manufacture of semiconductor devices or of electronic integrated circuis |
| 所属类目 | 机器、机械器具、电气设备及其零件；录音机及放声机、电视图像、声音的录制和重放设备及其零件、附件 |
| 所属章节 | 核反应堆、锅炉、机器、机械器具及其零件 |
| 品目 | 专用于或主要用于制造半导体单晶柱或晶圆、半导体器件、集成电路或平板显示器的机器及装置；本章注释九（三）规定的机器及装置；零件及附件 |
| 法定单位 | 台/千克 |
申报要素(共10项) |
1:品名； 2:品牌类型； 3:出口享惠情况； 4:用途； 5:功能； 6:品牌（中文或外文名称）； 7:型号； 8:GTIN； 9:CAS； 10:其他； |
| 监管条件 （无） | - |
| 检验检疫类别 （无） | - |
税率信息
| 税种 | 税率 |
|---|---|
| 进口关税（最惠国） | 0 |
| 进口关税（普通） | 30% |
| 暂定进口税率 | - |
| 进口增值税 | 13% |
| 出口关税 | - |
| 出口退税 | 13% |
| 消费税率 | 0% |
10位HS编码+3位CIQ代码(中国海关申报13位海关编码)
| HS编码+CIQ代码 | 商品信息 |
|---|---|
| 8486201000.999 | 氧化、扩散、退火及其他热处理设备(制造半导体器件或集成电路用的) |
申报实例汇总
| HS编码 | 商品名称 | 商品规格 |
|---|---|---|
| 8486201000.999 | 氧化、扩散、退火及其他热处理设备(制造半导体器件或集成电路用的) | - |
| 84862010.00 | 扩散炉 | 集成电路生产用|在硅片表面生长硅膜|AVIZA牌|RV |
| 84862010.00 | 预沉积扩散炉炉体 | 用于半导体器件生产，主要是氧化，扩散等热处理工艺上的应 |
| 84862010.00 | 扩散炉/TEL/在硅片中掺杂三价及 | (ALAPHA-303I) |
| 84862010.00 | 回流焊炉 | (旧)(制作半导体专用) |
| 84862010.00 | 生产晶片氧化炉 | (制作半导体专用) |
| 84862010.00 | 扩散炉 | (旧)1988年(制作半导体专用) |
| 84862010.00 | 硬化炉/旧 | (制作半导体专用) |
| 84862010.00 | 自动热风输送炉 | (品牌:群翊)(制作半导体专用) |
| 84862010.00 | 生产晶片退火炉 | (制作半导体专用) |
| 84862010.00 | 扩散炉/在硅片中掺杂元素增加 | (RVP-300) |
| 84862010.00 | 锡膏印刷机 | (DEK-InfinityApi) |
| 84862010.00 | 集成电路扩散炉 | (工业或实验室用) |
| 84862010.00 | 集成电路外延炉 | (工业或实验室用) |
| 84862010.00 | 快速固化炉 | (制作半导体专用) |
| 84862010.00 | 电烘箱CO868-A | ASM牌 |
| 84862010.00 | 直式沉积低压厚膜氮化硅炉管 | TELINDY-B-LVCKN TEL牌恒温区长度1000MM 片径300MM |
| 84862010.00 | 回流焊炉 | 型号:1809EXL |
| 84862010.00 | 电烘箱SR902-AA | ASM牌,含国内购料 |
| 84862010.00 | 芯片封装固化烘箱 | (旧)BI-32i |
| 84862010.00 | IC扩散炉 | 型号BDF-4 |