HS编码: 84861040.00
制造单晶柱或晶圆用的化学机械抛光设备(CMP)
商品描述：制造单晶柱或晶圆用的化学机械抛光设备(CMP)
基本信息
| 商品名称 |
制造单晶柱或晶圆用的化学机械抛光设备(CMP) 英文名称：Chemical mechanical polishers(CMP) for the manufacture of boules or wafers |
| 所属类目 | 机器、机械器具、电气设备及其零件；录音机及放声机、电视图像、声音的录制和重放设备及其零件、附件 |
| 所属章节 | 核反应堆、锅炉、机器、机械器具及其零件 |
| 品目 | 专用于或主要用于制造半导体单晶柱或晶圆、半导体器件、集成电路或平板显示器的机器及装置；本章注释九（三）规定的机器及装置；零件及附件 |
| 法定单位 | 台/千克 |
申报要素(共10项) |
1:品名； 2:品牌类型； 3:出口享惠情况； 4:用途； 5:功能； 6:品牌（中文或外文名称）； 7:型号； 8:GTIN； 9:CAS； 10:其他； |
| 监管条件 （无） | - |
| 检验检疫类别 （无） | - |
税率信息
| 税种 | 税率 |
|---|---|
| 进口关税（最惠国） | 0 |
| 进口关税（普通） | 30% |
| 暂定进口税率 | - |
| 进口增值税 | 13% |
| 出口关税 | - |
| 出口退税 | 13% |
| 消费税率 | 0% |
10位HS编码+3位CIQ代码(中国海关申报13位海关编码)
| HS编码+CIQ代码 | 商品信息 |
|---|---|
| 8486104000.999 | 制造单晶柱或晶圆用的化学机械抛光设备(CMP) |
申报实例汇总
| HS编码 | 商品名称 | 商品规格 |
|---|---|---|
| 8486104000.999 | 制造单晶柱或晶圆用的化学机械抛光设备(CMP) | - |
| 84861040.00 | 抛光机 | (旧)(48BSW385901) |
| 84861040.00 | 化学机械抛光设备/APPLIED/有效 | (SYSREFLEXIONLK) |
| 84861040.00 | 抛光机 | (旧)1996年(制作晶圆专用) |
| 84861040.00 | 单面抛光机/SILTEK/CMP抛光 | 3800/晶圆片表面抛光/ |
| 84861040.00 | 硅片制样系统 | WSPS3 WITHOUT MINI-ENVIROMENT |
| 84861040.00 | 半导体抛光机 | TRIBO CMP MACHINE SERIAL |
| 84861040.00 | 化学机械研磨机 | 型号:Mirra 3400 Ontrack Clean |
| 84861040.00 | 晶圆抛光机 | POLISHING |
| 84861040.00 | 化学机械抛光研磨机 | 型号:FREX 200 |
| 84861040.00 | 单面抛光机 | 用于制造LED衬底;单面抛光;SPEEDFAM;36GPAW |
| 84861040.00 | 铜盘抛光机 | 用于制造LED衬底;铜盘抛光;SPEEDFAM;36DPAW |
| 84861040.00 | 制造单晶柱或晶圆用的化学机械抛光设备(CMP) | - |
| 84861040.00 | 抛光机 | 抛光晶片用,使晶片表面光滑圆整|抛光晶 |
| 84861040.00 | Gnad61 化学机械抛光设备 | 用于抛光晶圆材料的表面|去除晶圆材料的厚度,提高晶圆材 |