HS编码: 37079090.90
其他摄影用化学制剂
商品描述：其他摄影用化学制剂包括摄影用未混合产品
基本信息
| 商品名称 |
其他摄影用化学制剂 英文名称：Other photography chemicals |
| 所属类目 | 化学工业及其相关工业的产品 |
| 所属章节 | 照相及电影用品 |
| 品目 | 摄影用化学制剂（不包括上光漆、胶水、粘合剂及类似制剂）；摄影用未混合产品；定量包装或零售包装可立即使用的 |
| 法定单位 | 千克/无 |
申报要素(共12项) |
1:品名； 2:品牌类型； 3:出口享惠情况； 4:用途； 5:包装规格； 6:成分； 7:是否含银； 8:品牌（中文或外文名称）； 9:型号； 10:GTIN； 11:CAS； 12:其他； |
| 监管条件 （无） | - |
| 检验检疫类别 （无） | - |
税率信息
| 税种 | 税率 |
|---|---|
| 进口关税（最惠国） | 0 |
| 进口关税（普通） | 35% |
| 暂定进口税率 | - |
| 进口增值税 | 13% |
| 出口关税 | - |
| 出口退税 | 13% |
| 消费税率 | 0% |
10位HS编码+3位CIQ代码(中国海关申报13位海关编码)
| HS编码+CIQ代码 | 商品信息 |
|---|---|
| 3707909090.301 | 其他摄影用化学制剂(包括摄影用未混合产品)(危险化学品，易燃液体) |
| 3707909090.302 | 其他摄影用化学制剂(包括摄影用未混合产品)(其他化工品) |
申报实例汇总
| HS编码 | 商品名称 | 商品规格 |
|---|---|---|
| 3707909090.301 | 其他摄影用化学制剂(包括摄影用未混合产品)(危险化学品，易燃液体) | - |
| 3707909090.302 | 其他摄影用化学制剂(包括摄影用未混合产品)(其他化工品) | - |
| 37079090.90 | PS版冲版液,用于PS版,包装:塑料桶,成份:水 | (磷酸二氢钠,参照归类问答书2004-564号型号:ENERGYEL) |
| 37079090.90 | 硅片生产用显影液 | (MF320200L/Drum) |
| 37079090.90 | 照排片定影液,用于激光照排片,包装:塑料桶,水 | (乙酸,硫代硫酸氨,参照归类问答书2004-564号,PFIX) |
| 37079090.90 | 富士PS版保护胶GU-7 | (1LX15) |
| 37079090.90 | 印刷保护胶 | (PLATEGUM) |
| 37079090.90 | 照排片显影液,用于激光照排片,包装:塑料桶,成份:水 | (碳酸钾,对苯二酚,参照归类问答书2004-564号,G101C1X1) |
| 37079090.90 | 显影液(200升)OPD-10C | 用于半导体硅片表面的清洗;塑料瓶/塑料桶;四甲基氢氧 |
| 37079090.90 | 显影液(5升)HPRD-429 POSITIVERESIST DEVELOPE | 用于半导体硅片表面的清洗;塑料瓶/塑料桶;四甲基氢氧 |
| 37079090.90 | 显影液(1000升)HPRD-429 POSITIVERESIST DEVEL | 用于半导体硅片表面的清洗;塑料瓶/塑料桶;四甲基氢氧 |
| 37079090.90 | 显影液(200升) | 用于半导体硅片表面的清洗;塑料瓶/塑料桶;四甲基氢氧 |
| 37079090.90 | 显影液(1000升) | 用于半导体硅片表面的清洁;塑料瓶/塑料桶;四甲基氢氧 |
| 37079090.90 | 显影液(5升)POSITIVE RESISTDEVELOPER | 用于半导体硅片表面的清洗;塑料瓶/塑料桶;四甲基氢氧 |
| 37079090.90 | 显影液(1000升)POSITIVE RESISTDEVELOPER | 用于半导体硅片表面的清洗;塑料瓶/塑料桶;四甲基氢氧 |
| 37079090.90 | 显影液(5升)HPRD-429 POSITIVEDEVELOPER | 用于半导体硅片表面的清洗;塑料瓶/塑料桶;四甲基氢氧化 |
| 37079090.90 | 显影液(200升)POSITIVE RESISTDEVELOPER | 用于半导体硅片表面的清洗;塑料瓶/塑料桶;四甲基氢氧化 |
| 37079090.90 | 显影液1000升 POSITIVE RESISTDEVELOPER | 用于半导体硅片表面的清洗;;; |
| 37079090.90 | 显影液5升,HPRD-429 POSITIVERESIST DEVELOPER | 用于半导体硅片表面的清洗;塑料瓶/塑料桶;四甲基氢氧 |
| 37079090.90 | 显影液200升,HPRD-429 POSITIVERESIST DEVELOPER | 用于半导体硅片表面的清洗;塑料瓶/塑料桶;四甲基氢氧 |
| 37079090.90 | 显影液5升POSITIVE RESISTDEVELOPER | 用于半导体硅片表面的清洗;;; |
| 37079090.90 | 显影液200升OPD-10C | 用于半导体硅片表面的清洗;;;; |